隨著(zhù)塑料模具日溢廣泛的應用，對產(chǎn)品提出的要求也將逐漸提高，而生產(chǎn)光學(xué)鏡片、鐳射唱片等模具對表面粗糙度要求極高。所以對拋光性的要求也較高，其外觀(guān)往往要求型腔的表面達到鏡面拋光的程度。拋光不僅增加工件的美觀(guān)，而且能夠改善材料表面的耐腐蝕性、耐磨性，還可以使模具擁有其它優(yōu)點(diǎn)，如使塑料制品易于脫模，減少生產(chǎn)注塑周期等，所以?huà)伖庠谒芰夏＞咧谱鬟^(guò)程中是很重要的一道工序。 

塑料模具的拋光方法有以下幾種： 

（1）機械拋光       

    機械拋光是切削、材料表面塑性變形去掉被拋光后的凸部而得到平滑面的拋光方法，一般使用油石條、羊毛輪、砂紙等，以手工操作為主，特殊零件如回轉體表面，可使用轉臺等輔助工具，表面質(zhì)量要求高的可采用超精研拋的方法。超精研拋是采用特制的磨具，在含有磨料的研拋液中，緊壓在工件被加工表面上，作高速旋轉運動(dòng)。利用該技術(shù)可以達到Ra0.008μm的表面粗糙度，是各種拋光方法中最高的，光學(xué)鏡片模具常采用這種方法。 

（2）化學(xué)拋光

    化學(xué)拋光是讓材料在化學(xué)介質(zhì)中表面微觀(guān)凸出的部分較凹部分優(yōu)先溶解，從而得到平滑面。這種方法的主要優(yōu)點(diǎn)是不需復雜設備，可以?huà)伖庑螤顝碗s的工件，可以同時(shí)拋光很多工件，效率高?；瘜W(xué)拋光的核心問(wèn)題是拋光液的配制，化學(xué)拋光得到的表面粗糙度一般為數10μm。 

（3）電解拋光      

    電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同，即選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學(xué)拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。

電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步： 

 1.宏觀(guān)整平：溶解產(chǎn)物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra＞1μm。 

 2.微光平整：陽(yáng)極極化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。 

（4）超聲波拋光 

    將工件放入磨料懸浮液中并一起置于超聲波場(chǎng)中，依超聲波的振蕩作用，使磨料在工件表面磨削拋光。超聲波加工宏觀(guān)力小，不會(huì )引起工件變形，但工裝制作和安裝較困難。超聲波加工可以與化學(xué)或電化學(xué)方法結合。在溶液腐蝕、電解的基礎上，再施加超聲波振動(dòng)攪拌溶液，使工件表面溶解產(chǎn)物脫離，表面附近的腐蝕或電解質(zhì)均勻，超聲波在液體中的空化作用還能夠抑制腐蝕過(guò)程，利于表面光亮化。

（5）流體拋光 

    流體拋光是依高速流動(dòng)的液體及其攜帶的磨粒沖刷工件表面達到拋光的目的。常用方法有：磨料噴射加工、液體噴射加工、流體動(dòng)力研磨等。流體動(dòng)力研磨是由液壓驅動(dòng)，使攜帶磨粒的液體介質(zhì)高速往復流過(guò)工件表面。介質(zhì)主要采用在較低壓力下流過(guò)性好的特殊化合物并摻上磨料制成，磨料可采用碳化硅粉末。 

（6）磁研磨拋光 

    磁研磨拋光是利用磁性磨料在磁場(chǎng)作用下形成磨料刷，對工件磨削加工。這種方法加工效率高，質(zhì)量好，加工條件容易控制，工作條件好。采用合適的磨料，表面粗糙度可以達到Ra0.1μm。

【注】鏡面加工的標準分為四級：AO=Ra0.008μm，A1=Ra0.016μm，A3=Ra0.032μm，A4=Ra0.063μm。

    在塑料模具加工中，所說(shuō)的拋光與其他行業(yè)中所要求的表面拋光有很大的不同，準確的說(shuō)塑料模具的拋光應該稱(chēng)為鏡面加工。它不僅對拋光本身有很高的要求并且對表面平整度、光滑度以及幾何精確度也有很高的標準，表面拋光一般只要求獲得光亮的表面即可。由于電解拋光、流體拋光等方法很難精確控制零件的幾何精確度，而化學(xué)拋光、超聲波拋光、磁研磨拋光等方法的表面質(zhì)量又達不到要求，所以精密模具的鏡面加工還是以機械拋光為主。